哈爾濱工業(yè)大學:攻克超黑涂層常溫制備技術(shù)瓶頸
哈爾濱工業(yè)大學對外發(fā)布消息稱,該?;づc化學學院吳曉宏教授團隊在超黑涂層技術(shù)領域取得重要突破,攻克了超黑涂層常溫制備技術(shù)瓶頸,得到了一種朗伯特性顯著的高穩(wěn)定超黑涂層。

經(jīng)第三方權(quán)威機構(gòu)檢測,該涂層寬光譜吸收高達99.8%,光線80°入射時總散射積分低至1.5%,可凝揮發(fā)物為0.00%,全面滿足多種基體、復雜形面、超大面積實施工藝和空間極端環(huán)境應用需求,性能與技術(shù)成熟度均優(yōu)于國內(nèi)外現(xiàn)役同類產(chǎn)品。
據(jù)介紹,超黑涂層能吸收幾乎所有照射在其上的光,應用領域十分廣泛,絕大多數(shù)精密光學儀器,都需要超黑涂層來屏蔽光學干擾,提升信噪比和探測能力。
20多年來,吳曉宏教授團隊針對工況條件“量身定制”出一系列滿足服役環(huán)境的超黑涂層,已交付遮光罩、擋光板、光闌筒、定標黑體等產(chǎn)品數(shù)千件,有效提升了我國航天器光學載荷的在軌探測能力和定位精度,為保證載荷全壽命周期高性能穩(wěn)定運行提供了必要條件。

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